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曝光机
Main parameter

1. 设备功能:按制程要求在玻璃基板之感光膜上通过掩膜曝光产生感光图案,为下一步图案显影作准备

2. 设备外形尺寸:(L)2000×(W)1765×(H)2200mm

3. 重量:1200Kg

4. 基板尺寸: 470X370mm(宽度方向为370mm)

5. 基板厚度: 0.4~1.1mm

6. 曝光精度: ±0.03mm

7. 宽线距范围 :±10um

8. 平台平面度: ±0.02mm

9. GAP重复精度: ±10μΜ

10. 曝光灯散布均匀性: >90%以上(测25点,计算公式:小值/[敏感词]值)

11. 自动MARK对位: 自动对位

12. 曝光光强度: 35mw/cm2以上

13. 曝光灯类型: 平行曝光灯

14. 生产效率: 20s/pcs(100mj)

15. 平台材质: 硬铝合金,表面黑色硬质氧化